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第43卷第5期
·692 · 南 京 医 科 大 学 学 报 2023年5月
应 [7- 8] 。破坏 GluN2B⁃PSD95⁃nNOS 复合物可抑制 核磁共振仪测定,质谱用 Agilent technologies 6520
NMDAR 介导的 NO 产生并保护神经元免受兴奋性 Accurate⁃Mass Q⁃TOF LC/MS 测定;熔点用 X⁃4 数字
毒性损伤 [9-12] 。因此,通过特异性抑制PSD95⁃nNOS 显示显微熔点仪测定;薄层层析板采用 HSGF 254
结合,减少NO的产生,能够减轻卒中损伤。 (烟台江友硅胶开发有限公司),于紫外灯下(波长
本课题组前期研究发现的PSD95⁃nNOS解耦联 254 nm)显色,柱层析采用 200~300 目硅胶(烟台江
剂 ZL006,有较好的神经保护作用并且无明显的镇 友硅胶开发有限公司)。本文所用其他试剂均为
静和记忆缺失等不良反应 [13- 15] 。目前 ZL006 等 分析纯,无水试剂均按常规方法处理,水为 2 次蒸
PSD95⁃nNOS 解耦联剂与 PSD95⁃nNOS 的结合模式 馏水。
目前尚不明确 [16] ,本文以ZL006为先导化化合物,对 1.2 方法
其亲脂端、连接臂和水杨酸结构进行结构修饰,设 1.2.1 合成路线
计并合成了4个系列共21个衍生物,采用谷氨酸诱 1.2.1.1 ZL006亲脂端结构修饰衍生物的合成
导的 SH⁃SY5Y 细胞损伤模型测试了化合物的体外 以4⁃取代苯酚或2,4⁃二取代苯酚为原料,通过达
细胞保护活性,同时采用CCK⁃8比色法测试了化合 夫反应得到中间体3a~3g,这些中间体通过醛胺缩合、
物的细胞毒性 [17-18] ,系统地探究了此类化合物的构 硼氢化钠还原得到部分目标衍生物5a~5g(图1)。
效关系,为该类化合物作为 PSD95⁃nNOS 解耦联剂 以3,5⁃二氯苯甲醛为原料,通过硝化反应得到
进一步优化提供依据。 中间体7,再通过醛胺缩合、硼氢化钠还原得到化合
物8,最后通过铁粉还原得到目标化合物9(图2)。
1 材料和方法
以 3,5⁃二氯水杨醛为原料,经甲基化反应,硼
1.1 材料 氢化钠还原,溴化反应得到中间体 13,中间体 13 与
13
1
合成化合物 H⁃NMR,C⁃NMR用JEOL 400 MHz 4⁃氨基⁃2⁃羟基苯甲酸甲酯发生取代反应,再经过水
COOH R1 R2
OH OH
OH
5a ⁃Cl
R1 ⁃CH3
R1 R1
ⅰ O ⅱ N OH 5b ⁃CH3 ⁃CH3
H
COOH 5c ⁃Cl ⁃Br
R2 R2 5d ⁃Br ⁃Br
H2N OH R2 5a~5g
2a~2c 3a~3g 4
5e ⁃Br ⁃Cl
5f ⁃H ⁃Cl
5g ⁃H ⁃Br
反应条件和试剂:①Heterin,AcOH,75~125 ℃,2 h;H2SO4;75 ℃,3 h;②iiA:4⁃amino⁃2⁃hydroxybenzoic acid,EtOH,r.t.,1 h;iiB:BH4Na,EtOH,r.
t.,1 h;HCl,r.t.,20 min。
图1 路线1:化合物5a~5g的合成
Figure 1 Route 1:synthesis of comppunds 5a~5g
COOH COOH
NO2 NH2
NO2
Cl Cl Cl Cl
O OH OH
ⅰ O ⅱ N ⅲ N
H H
Cl Cl Cl Cl
9
6 7 8
反应条件和试剂:①H2SO4,HNO3,0 ℃,30 min;②iiA:4⁃amino⁃2⁃hydroxybenzoic acid,EtOH,r.t.,1 h;iiB:BH4Na,EtOH,r.t.,1 h;HCl,r.t.,20
min;③Fe,AcOH,85 ℃,1 h
图2 路线2:化合物9的合成
Figure 2 Route 2:synthesis of comppunds 9
解反应得到目标化合物16(图3)。 化合物10通过醛胺缩合,硼氢化钠还原得到部分目
1.2.1.2 ZL006水杨酸结构修饰衍生物的合成 标化合物 18a~18c,再以 18b 为原料,通过氨解反应
以 4⁃氨基水杨酸酯或 5⁃氨基水杨酸为原料,与 得到化合物19和20(图4)。